Жарым өткөргүчтүү кварц пластинкасы

Semixlab Semiconductor Quartz Wafer - бул жарым өткөргүчтөрдү иштетүү чөйрөлөрүндө талап кылынган тактык менен жылмаланган, ультра жогорку тазалыктагы кремний диоксиди субстраты.

Ал термикалык кычкылдануу, CVD/LPCVD, PECVD жана литография системаларында жасалма пластинка, ташуучу пластинка, оптикалык субстрат жана фотомаска базасы катары кеңири колдонулат.

99.99% жогорку тазалыктагы SiO₂ден жасалган бул кварц пластинкасы өзгөчө жылуулук туруктуулугун, химиялык инерттүүлүгүн жана оптикалык тунуктукту сунуштап, жарым өткөргүчтөрдү өндүрүүнүн алдыңкы линияларында туруктуу жана булганбай иштөөнү камсыз кылат.

Ⅰ. Материалдык жана беттик касиеттери

● Материал: Синтетикалык же табигый эритилген кремнезем (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Диаметрлердин параметрлери: 2", 4", 6", 8", 12" (өздүк өлчөмдөрү бар).

● Surface Finish: Эки тараптуу жылмаланган, тегиздик ≤ 5 μm, бетинин оройлугу ≤ 0.5 нм.

● Жылуулук каршылык: 1200 ° C үзгүлтүксүз иштешине чейин туруктуу.

● Жылуулук кеңейүү коэффициенти: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Оптикалык өткөрүү: 190 нмден 2,600 нмге чейин >90%.

Ар бир пластинка жарым өткөргүчтүн талаптарына толук шайкеш келүүсүн камсыз кылуу үчүн катуу беттик текшерүүдөн, өлчөмдүү текшерүүдөн жана тазалык анализинен өтөт.

Ⅱ. Жарым өткөргүч процесстериндеги негизги функциялар

1. CVD жана LPCVD системаларындагы процессти алып жүрүүчү

Кварц пластинкалары SiO₂, Si₃N₄ жана полисиликон жука пленка чөккөндө газдын агымын жана температуранын бирдейлигин турукташтыруу үчүн муляж же спасердик ваф катары колдонулат. Алардын өлчөмдүү тактыгы пленканын бирдей өсүшүн жана бөлүкчөлөрдүн минималдуу генерациясын сактоо циклдеринде камсыз кылат.

2. Кычкылдануу жана диффузиялык мештердин колдонмолору

Жогорку температурадагы кычкылдануу жана кошумча диффузия процесстеринде кварц пластинкалары жылуулук калканчынын же процесстин мониторунун ролун аткарып, температуранын бирдей бөлүштүрүлүшүн сактап, өндүрүш пластинкаларынын булганышын алдын алат.

3. Оптикалык жана литографияны колдонуу

Жогорку оптикалык өткөрүмдүүлүктүн жана сынуу көрсөткүчүнүн бирдейлигинин аркасында кварц пластинасы фотомасканы жасоо, DUV экспозициялык субстраттар жана оптикалык калибрлөө куралдары үчүн идеалдуу. Бул i-line, KrF жана ArF литография системалары үчүн ырааттуу жарык берүүнү кепилдейт.

4. Плазма жана лейтинг чөйрөлөрү

Кургак оюу жана плазма CVD системаларында кварц пластиналары галогендик газдарга (CF₄, SF₆, Cl₂) каршы мыкты диэлектрдик бекемдикти жана химиялык туруктуулукту сунуш кылган камералык калканч же плазмалык терезе катары колдонулат.

5. Метрология жана жабдууларды калибрлөө

Кварц пластиналары пленканын калыңдыгын, температурасын жана тегиздигин калибрлөө үчүн эталондук пластиналар катары кызмат кылат. Алардын өтө жылмакай, кемчиликсиз бети процессти башкаруунун туруктуулугун камсыз кылуу менен так жана кайталануучу өлчөө натыйжаларын берет.

Typical Тиркемелер

● CVD, LPCVD жана PECVD системалары үчүн жасалма вафли

● Кычкылдануу жана диффузиялык мештердеги процесстерди ташуучу же термикалык калканч

● UV/DUV литографиясы үчүн фотомаска субстраты

● Жабдууларды калибрлөө жана метрология боюнча маалымдама пластинасы

● Плазма камерасынын терезеси жана оюу процессинин коргоочусу

Semixlab Semiconductor Quartz Wafer эң талап кылынган жарым өткөргүч процесстери үчүн иштелип чыккан жогорку натыйжалуу субстрат. Анын термикалык туруктуулугу, оптикалык тактыгы жана химиялык тазалыгы аны чөктүрүүдө, кычкылдантууда, литографияда жана метрологияда колдонууда маанилүү кылат. Комплекстүү ыңгайлаштыруу жана инженердик колдоо менен Semixlab процесстин ырааттуулугун, түшүмдүн ишенимдүүлүгүн жана операциялык эффективдүүлүгүн максималдаштыруучу чечимдерди сунуштайт. Биз чын жүрөктөн сиздин Кытайдагы узак мөөнөттүү өнөктөш болууга үмүттөнөбүз.