EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Жарым өткөргүчтүү кварц ваннасы
Quick Толугураак:
1. Башка аталыштар: жарым өткөргүч кварц багы, жарым өткөргүч үчүн кварц ваннасы, жарым өткөргүч үчүн кварц багы.
2.Application: Semiconductor Quartz ваннасы жарым өткөргүч өндүрүшүндө так тазалоо жана химиялык иштетүү үчүн атайын иштелип чыккан жогорку тазалыктагы, коррозияга туруктуу компонент. WS-620C/ WS-820C/ WS-820L тутумуна шайкеш келүү үчүн иштелип чыккан бул кварц ваннасы жогорку температуралык шарттарда (175°Cге чейин) иштейт жана фосфор кислотасынын (H₃PO₄) эритмелери менен колдонууга оптималдаштырылган жана вафлиди тазалоо процессинде өзгөчө натыйжалуулукту камсыз кылат.
3. Негизги параметрлер:
Эриген кварц (>99.99% SiO₂).
Жогорку температурада H₃PO₄ (фосфор кислотасы) үчүн өзгөчө химиялык инерттүүлүк, деградацияга же бөлүкчөлөрдүн пайда болушуна жол бербейт.
160°C жана 175°C эң жогорку температурада үзгүлтүксүз иштөөгө туруштук берип, структуралык бүтүндүгүн жана өлчөмдүк туруктуулугун сактайт.
баяндоо
Жарым өткөргүчтүү кварц ваннасы - бул жарым өткөргүчтөрдү өндүрүүдө так тазалоо жана химиялык иштетүү үчүн атайын иштелип чыккан жогорку тазалыктагы, коррозияга туруктуу компонент. WS-620C/ WS-820C/ WS-820L тутумуна шайкеш келүү үчүн иштелип чыккан бул кварц ваннасы жогорку температуралык шарттарда (175°Cге чейин) иштейт жана фосфор кислотасынын (H₃PO₄) эритмелери менен колдонууга оптималдаштырылган жана вафлиди тазалоо процессинде өзгөчө натыйжалуулукту камсыз кылат.
Негизги өзгөчөлүктөр
Материалдык артыкчылык
Жогорку тазалыктагы кварц: синтетикалык эритилген кварцтан (>99.99% SiO₂) өндүрүлгөн, минималдуу булганууну жана термикалык соккуга туруктуулукту камсыз кылат.
Кислотага каршылык
Жогорку температурада H₃PO₄ (фосфор кислотасы) үчүн өзгөчө химиялык инерттүүлүк, деградацияга же бөлүкчөлөрдүн пайда болушуна жол бербейт.
Жылуулук туруктуулугу
160°C тынымсыз иштөөгө жана 180°C эң жогорку температурага туруштук берип, структуралык бүтүндүгүн жана өлчөмдүү туруктуулугун сактайт.
Performance артыкчылыктары
Булганууну көзөмөлдөө: Ультра жылмакай бет бөлүкчөлөрдүн адгезиясын азайтат, бул субмикрондук жарым өткөргүч түйүн процесстери үчүн маанилүү.
Узак мөөнөттүүлүк: Кварцтын кислота коррозиясына жана термикалык чарчоого туруктуулугу кызмат мөөнөтүн узартат, токтоп калуу жана техникалык тейлөөгө кеткен чыгымдарды азайтат.
Процесстин ырааттуулугу: Туруктуу жылуулук өткөрүмдүүлүк температуранын бирдей бөлүштүрүлүшүн камсыздайт, тазалоонун эффективдүүлүгүн жана кайталанышын жогорулатат.
Эмне үчүн Semixlab жарым өткөргүчтүү кварц ваннасын тандайсыз?
Жарым өткөргүчтүн сапаты: SEMI стандарттарына жооп берүү үчүн таза бөлмө чөйрөсүндө өндүрүлгөн.
Ыкчам чечимдер: белгилүү бир процесстин талаптарына дал келүүчү ылайыкташтырылган дизайн.
Ишенимдүүлүк: Катуу сапатты сыноо жарым өткөргүч өнөр жайынын талаптарына шайкеш келүүнү камсыздайт.
өзгөчөлүктөрү
| Механикалык менчик | тыгыздыгы (г/см3) | 2.2 |
| Mohs катуулук | 6-7 | |
| Кысуу күчү (МПа) | 1100 | |
| Созуу күчү (Н/мм2) | 50 | |
| Ийилүү күчү (Н/мм2) | 65 | |
| Айлануу күчү (Н/мм2) | 30 | |
| Жаш модулу (МПа) | 7.2x104 | |
| Пуассон катышы | 0.16 | |
| Жылуулук касиеттери | Термикалык кеңейүү коэффициенти (20~320℃,k-1) | 5.5x10-7 |
| Жылуулук өткөрүмдүүлүк (20℃,Вт·м-1k-1) | 1.4 | |
| Салыштырмалуу жылуулук (20℃, Дж·кг-1k-1) | 670 | |
| жумшартуу чекити (℃) | 1700 | |
| Күйүү чекити (℃) | 1180 | |
| Чыңалуу чекити (℃) | 1080 | |
| Электрдик касиет | Электрдик каршылык (Ω·m) | 1x1016(20 ℃) |
| Диэлектрик туруктуу (10 ГГц) | 3.74 | |
| Диэлектрик жоготуу (10 ГГц) | 0.0002 | |
| Диэлектрик күч (V·m-1) | 3.7x107 |
Тиркемелер
Вафельди тазалоо: H₃PO₄ негизиндеги эритмелердеги фоторезистти, калдыктарды жана булгоочу заттарды офорттоо же литографиядан кийинки тазалоо.
Жогорку температуралык процесстер: Жогорку температурада агрессивдүү химияны талап кылган жарым өткөргүчтөрдү жасоонун өркүндөтүлгөн кадамдары үчүн ылайыктуу.
Шайкештик: WS-620C/ WS-820C/ WS-820L системасы үчүн логиканы, эстутумду же кубат түзмөктөрүн өндүрүүчү фабтарда идеалдуу.
